Российские научно-исследовательские институты НИИМЭ и НИИТМ, входящие в группу компаний «Элемент», разработали кластерные системы для плазмохимического осаждения (ПХО) и травления (ПХТ), необходимые для выпуска интегральных микросхем по топологическим нормам 65 нм.
Отечественная разработка
Оборудование рассчитано на работу с кремниевыми пластинами диаметром 200 и 300 мм, что соответствует требованиям современных производств. По заявлению компании, российские институты вошли в число пяти мировых организаций, обладающих компетенциями в создании подобных систем.
Ключевая роль институтов
Основную роль в реализации проекта сыграл НИИМЭ, который обеспечил строительство чистых помещений, монтаж опытных образцов, а также разработку и испытание технологических процессов. НИИТМ, выступивший в качестве ключевого соисполнителя, отвечал за конструирование самого оборудования и участвовал в его испытаниях.
Перспективы и значимость
Заместитель министра промышленности и торговли РФ Василий Шпак подчеркнул, что установки для 65-нм техпроцесса на 300-мм пластинах удовлетворяют перспективные потребности отечественной микроэлектроники. Особое значение, по его словам, имеет модульная архитектура платформы, позволяющая внедрять новые процессы на существующих производственных линиях и использовать её как основу для дальнейшего перехода к освоению последующих, более продвинутых технологических норм.
Мировой контекст
Мировые лидеры полупроводниковой индустрии освоили 65-нм техпроцесс ещё в 2004 году, а массовое производство чипов на нём стартовало в 2006-м — это были Intel Pentium 4 (Cedar Mill), Intel Core, Core 2 и Core 2 Duo. Но вместе с тем для производства различных микросхем, например простых контроллеров и датчиков, данный техпроцесс используется до сих пор.
Вызовы и перспективы
Одновременно Шпак сообщил 25 ноября о недофинансировании со стороны федеральной программы развития электронного машиностроения на сумму 33,1 млрд рублей. По его данным, финансирование в этом плане сократилось на десятки миллиардов, в связи с чем, к концу 2025 года «отставание в реализации НИОКР достигнет более 60 проектов».
Финансовые показатели
- В 2024 году планировалось выделить на развитие программы 43,3 млрд рублей, но фактически было выделено лишь 23,7 млрд.
- В 2025 году вместо планируемых 40 млрд рублей реальные расходы составили 15,7 млрд.
- На 2026 год запланировано 30 млрд рублей, на 2027 и 2028 годы по 25 млрд рублей ежегодно.
Генеральный директор НИИМЭ Александр Кравцов и гендиректор НИИТМ Михаил Бирюков назвали создание отечественных кластерных систем для ПХО и ПХТ ключевым шагом к технологической независимости российской микроэлектроники.
EN 
RU