Китай добился прорыва в производстве чипов
Китайские ученые в засекреченной лаборатории в Шэньчжэне создали работающий прототип EUV-литографа, способного производить передовые чипы для ИИ, смартфонов и вооружений. Об этом сообщает Reuters со ссылкой на источники, знакомые с проектом.
Реверс-инжиниринг и комплектующие
Машину собрала команда бывших инженеров голландской ASML — единственной компании в мире, освоившей эту технологию. Инженеры работали под вымышленными именами и занимались реверс-инжинирингом оборудования бывшего работодателя. Комплектующие от старых литографов ASML покупали на вторичном рынке — в том числе на Alibaba Auction.
Характеристики прототипа и перспективы
Прототип, завершенный в начале 2025 года, занимает почти целый заводской цех. Машина уже работает и успешно генерирует экстремальный ультрафиолет, но пока не произвела ни одного чипа. Правительство поставило цель — рабочие чипы к 2028 году, хотя источники Reuters считают более реалистичным сроком 2030-й.
Участие Huawei и поддержка правительства
Проект курирует лично Дин Сюэсян — близкий соратник Си Цзиньпина и глава Центральной комиссии по науке и технологиям Компартии. Huawei участвует на всех этапах — от проектирования чипов до производственного оборудования и интеграции в конечные продукты.
Meaning and consequences
На данный момент, ASML — единственная компания, освоившая EUV-литографию. Ее машины стоят около $250 млн и необходимы для производства самых современных чипов Nvidia, AMD, TSMC, Intel и Samsung. Существование шэньчжэньского прототипа показывает, что прогнозы о сроках разработки такой технологии в Китае могли быть слишком оптимистичными.
Conclusion
Создание прототипа EUV-литографа в Китае является значительным прорывом в области производства чипов. Этот проект может иметь серьезные последствия для глобального рынка технологий и может изменить баланс сил в индустрии.
EN 
RU