В 2026 году в России начнет работать Научно-технологический центр по изготовлению фотошаблонов (НТЦ ФШ), который будет выпускать фотошаблоны для производства интегральных схем по технологии до 28 нанометров.
Центр изготовления фотошаблонов
Как стало известно, НТЦ ФШ будет выпускать фотошаблоны до 28 нанометров (нм) для производства интегральных схем. В 2026 году планируется разработка фотошаблонов 350 и 250 нм. На 2027 год запланирована разработка фотошаблонов на 180 нм и начало выпуска 350 нм, в 2028 году — разработка 90 нм и выпуск 250 нм, в 2029 году — выпуск 180 и 90 нм. План к 2030 году — достичь выпуска фотошаблонов 65 нм.
Производственная мощность
Производственная мощность предприятия должна составить около 10 тыс. заготовок ежегодно. Площадь производственного здания в Зеленограде составит 14,5 тыс. кв м.
Участники проекта
В проекте участвуют правительство Москвы, Минпромторг, Минобрнауки и Национальный исследовательский университет «Московский институт электронной техники». ГК «Элемент» в Зеленограде в 2026 году начнут массовое производство фотошаблонов.
Оборудование
Согласно презентации, в базовый перечень технологического оборудования для производства фотошаблонных заготовок входят 19 установок из разных стран. Из них есть оборудование, которое закупается для НТЦ ФШ.
Значение для отрасли
По мнению экспертов, реализация проекта может снять стратегические риски для страны, связанные с производством микросхем. При этом могут возникнуть трудности не только с оборудованием, но и с материалами и ПО.
Перспективы
Существенен и эффект масштаба: если центр действительно поднимет линию фотошаблонных заготовок на 248/193 нм с мощностью порядка 10 тыс. штук в год, то это закрывает потребности не только масок для интегральных схем, но и смежных направлений.
В целом на реализацию проекта может потребоваться около 15–30 млрд руб.
RU 
EN